导电光学材料电阻率对溅射镀膜效率的影响分析数据集已成功在安徽省数据知识产权登记平台进行登记，应用在透明导电薄膜、溅射镀膜工艺领域

安徽立光电子材料股份有限公司本次登记的数据知识产权导电光学材料电阻率对溅射镀膜效率的影响分析数据集，本数据集来源于导电光学材料溅射镀膜工艺实验，共包含60条有效记录，涵盖ITO、AZO、GZO、IWO及高阻ITO五种典型透明导电材料体系。每条数据记录了材料电阻率、溅射镀膜效率、膜厚、方块电阻、透光率、附着力、溅射功率及基板温度等关键工艺与性能指标。数据旨在探究靶材导电性与溅射沉积速率、薄膜光电性能之间的关联，为透明导电薄膜的工艺优化、靶材选型及质量控制提供支撑。不同材料体系下电阻率与效率呈现明显负相关趋势，高阻样品（>50 μΩ·cm）效率显著下降。该数据集适用于溅射工艺建模、性能预测及异常阈值识别。

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